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連續式(shì)四探針片電阻及光學膜厚測量設備

更新時間:2023-03-28

產品品牌:Frontier Semiconductor

產品型號:

產品描述:連續式四探針片電阻及光學膜(mó)厚測量設備設計, 片電阻不受針尖距離影響多種型號以供選擇

連續式四探針片電阻及光學膜厚(hòu)測量設備設計, 片電阻不受針尖距離影響(xiǎng)多種型號以供選擇: 
自動(dòng)上下片(Cassette to cassette, C2C) 
室溫至100°C 的測量(更高可選)
可添加並整合於多腔式的集(jí)束型架構設備(bèi)(cluster tool) 

亦可在連續式設(shè)備內加入四探針片電阻及光學膜厚測量(liàng), 適合薄膜太陽能(銅銦镓硒, CIGS)及平板顯示行業

基材尺寸: 
450mm晶圓 (樣品(pǐn)台(tái)旋轉)
370 x 470mm 長方形基底 (XY樣品台)
連續式設備可以度身訂做, 沒有尺寸限製(zhì) 
片電阻測量適合金屬薄膜(mó)、銅銦镓硒、非晶矽(矽(guī))、碲化(huà)鎘、鉬、透(tòu)明(míng)導電薄膜(AlZnO2)、摻雜之後的矽(矽)、矽鍺及鍺 
0.1 – 100,000 單位麵積奧姆值 (更(gèng)高可選) 

可整合於連續式(INLINE)的生產線(xiàn)內, 而收集的測量數據可自動送到SCADA係(xì)統
光學膜厚測量功能可選 
測量光斑<1mm
波(bō)長: 380-1050nm
可測量膜厚: 15-50nm, 多可(kě)達250nm
短時間重複性: ~0.1nm 
長時間重複性(xìng):: ~0.1nm 

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