更新時間：2020-08-12
產（chǎn）品品（pǐn）牌：Semiconsoft
產品型號：MProbe Vis
MProbe Vis薄膜測厚（hòu）儀大部分透光或弱吸收（shōu）的薄膜均可以快速且（qiě）穩定的被測量（liàng）。比如：氧化物（wù），氮化物，光刻膠，高分子聚（jù）合物，半導體(矽（guī），單晶矽，多晶矽)，半導體化合物(AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS)，硬塗層(碳化矽，類金剛石炭)，聚合物塗層(聚甲（jiǎ）基丙烯酸甲酯，聚酰胺
大部分透（tòu）光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩定（dìng）的被MProbe Vis測厚儀測量。比如（rú）：氧化物，氮化物，光刻膠，高分子聚合物，半導體(矽，單晶矽，多晶矽)，半導（dǎo）體（tǐ）化合物(AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS)，硬塗層(碳化矽，類金剛石炭)，聚合物塗層(聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)。
測量範圍: 15 nm -50um
波長範圍: 400 nm -1100 nm
MProbe Vis薄膜測厚儀適用於實時（shí）在線測量，多層測量，非均勻塗層, 軟（ruǎn）件包含大量材料庫(超過500材料)，新材料可以很容（róng）易的添加，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等。
測量指標：薄膜厚度，光學常數
界麵友好: 一鍵式測量和分析。
MProbe Vis薄膜測（cè）厚儀實用的工具：曲（qǔ）線擬（nǐ）合（hé）和靈敏度（dù）分析，背（bèi）景和變形校正，連接層和材料，多樣品測量，動態測（cè）量和產線批量（liàng）處理。
案例1，300nm二氧（yǎng）化矽薄膜的測（cè）量：
矽晶圓反射率，測量時間10ms：
案例2，測量500nm氮化鋁，測量參數：厚度和表麵粗糙度
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