
更新時間:2024-07-26
產品品牌(pái):布魯克Bruker
產品型號(hào):ContourX-1000
三維光學輪廓儀/白光幹涉儀
ContourX-1000

布(bù)魯克Bruker ContourX-1000 落地式三維光學輪廓儀/白光幹涉儀 (WLI) 可(kě)以(yǐ)輕鬆快速地完成高(gāo)質量的三維表麵紋理和粗糙(cāo)度測量。設備的計(jì)量係統融(róng)合了超過(guò)三十(shí)年(nián)的創新研發和布魯克的專有軟件和技術,具備更卓越的性能、更高的效率和可重複性以及(jí)更便捷的測量流程。
全新的一鍵式尋找表麵(Advanced Find Surface ™)功能結合了自動聚焦和自動照明功能,無需每次測量前手動查找樣品(pǐn)表麵,大幅提升了用戶體驗,縮短(duǎn)了測量時間。結合自適應測量模式 USI和簡(jiǎn)潔的引導式 VisionXpress™操作界麵,ContourX-1000 幾乎能夠在(zài)任何表麵,任何操作人員,甚至多用戶高負荷(hé)的生產設備(bèi)下提供高質量的精確測量。

產品特點(diǎn):
· 可傾斜/俯仰光學頭、雙光源和先進(jìn)的自動化功能,提供快速、靈活的(de)生產(chǎn)車間內測量。
· 自校準激光和(hé)集成的防震台,確保更高(gāo)的測量準確性和可靠性。
· 提供的測量和分析軟件帶有簡潔且有引(yǐn)導性的(de)程(chéng)序和(hé)模式,更(gèng)大(dà)程度的方便用(yòng)戶使用。
創新的硬件設計
ContourX-1000 三維輪廓儀集成有 Bruker 專利(lì)的傾斜/俯仰光學頭,特有的雙光源、自動化的物鏡轉盤(pán)和樣(yàng)品台,以及可選配的晶(jīng)圓卡盤。這些創新可為幾乎所有的在研發和生(shēng)產中的應用提供快(kuài)速且有效的解決方案,包括有難度的表麵和深溝槽結構。
ContourX-1000配備了(le)專屬的(de)內部參考激光和防震台以(yǐ)獲取更好的穩定性和與其他工具的匹配(pèi)能力。即使在嘈雜的環境中,該係(xì)統也(yě)能確保設備能完成精準的測量工作。

強大的自動測量分析功能
ContourX-1000具有易於(yú)操作的功能和先進的自動化生產界麵,允許係統在更少的人工幹預下快速收集高質量的檢測結果報告,有效減少由於操(cāo)作人員不同或操(cāo)作(zuò)設置不同而導致的數據采集和分析(xī)的(de)結果偏差。
自動(dòng)功能包括:
· 自動測量和分析方案(àn)
· 自動對焦和自動照明功能,一(yī)鍵式搜索表麵
· 自適應USI測量模式,自動確定合適的(de)測量(liàng)參(cān)數
· 提供引(yǐn)導的VisionXpress界麵
· 自動模式對齊
· 自動強度調整,自動保存,自(zì)動拚接等

Vision64 - 儀器控製和分析軟件
ContourX-1000
由 Vision64® 軟件提供支持,該軟件是業界內的一款功能強大、用戶友好的圖(tú)形(xíng)用戶界麵。這款功能齊全(quán)的軟(ruǎn)件包括:
查找圖麵:查找表麵功能使(shǐ)任何用戶都能獲得高質量的(de)結果,無論(lùn)操作員的經驗水平如何,即使在多用戶環境中也是如此。它不僅可以實現自動(dòng)對焦,還可以調整關鍵照明參數,如 LED 環形(xíng)燈的強度(dù)。這允許設備能夠在各種材料表麵上(shàng)進行完整的計量,改善用戶體驗,易於操作,並縮短獲得結果的時間。
VisionXpress:VisionXpress™ 的界麵使用簡單,適用於多用戶環境的標準測試庫,在功能齊全的Vision64 界麵(用於設置(zhì)和自動分析)以及用於自動化(更少的人工幹預)的生產(chǎn)界麵之間,您可以自由的選擇更適合需求的解決(jué)方案(àn)。
通用(yòng)掃描幹涉測量:USI模式的自適應(yīng)表麵(miàn)智能可自動調整算法參數,在同一視場內的不同表麵紋理上獲(huò)得更(gèng)優(yōu)的結果,即使(shǐ)在(zài)對比度、強度和高(gāo)度不同的表麵上也是如此。這種自動檢測表麵類型並提供精確計量的能力使其成為簡單且可靠的測量方法之一,適用於幾乎任何表麵,從透明到不透明,垂直範圍高達 120 μm。

應用案例(lì)
ContourX-1000 將先進的硬件和軟件(jiàn)集成結(jié)合在一起,能夠對各種應用和行業(包括關鍵尺寸計量等)的各種表麵進行高精度、量具能力的定量 3D 表麵(miàn)表征。
1、改進如元件等的製(zhì)造工藝
通過測量(liàng)表(biǎo)麵粗糙度(dù)參數,準確評估和衡量一些零部件的(de)複雜表麵紋理,幫助改進表麵光潔度工藝。

2、新型材(cái)料的研究和(hé)大規模(mó)製造
為新型材料的研究和大規模製造提供快速、準確的平均表麵粗(cū)糙度(dù)評估(gū)

3、半導體表麵表征
用於半導體材(cái)料和器件納米級表麵表征的高性能測量解決方案(àn)

4、更多應用
· 高縱橫比MEMS器(qì)件結構

· 工業高分子薄膜

· 高密度凸起互連

· 拚接(jiē)測量得到的雙焦隱(yǐn)形眼鏡形貌

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